2016年5月9日~11日LTB-CHINA与LTB柏林工程师一起参加在北京国家会议中心举办的为期3天的PHOTONICS CHINA EXPO会议。充分展示了LTB在光谱领域的尖端技术与实力，并与来自全国各地的光电领域专家朋友共同探讨相关技术问题。

    会议期间中国工程院院士金国藩院士莅临我方展位，并与我方工程师就LIBS技术的工程应用进行了深入探讨……